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उच्च शुद्धता 99.99% ऑप्टिकल क्वार्ट्ज विंडो के लिए 1732C पिघलने बिंदु और 1100C कार्य तापमान के साथ फ्यूज्ड सिलिका प्लेट
99.99% SiO2, >92% प्रकाश संप्रेषण, 1732℃ गलनांक और 1150℃ कार्य तापमान के साथ उच्च शुद्धता वाली फ़्यूज्ड सिलिका प्लेटें। पंचिंग/कटिंग विकल्पों के साथ कस्टम आकार (1-800 मिमी व्यास, 0.2-100 मिमी मोटाई)। जेजीएस मानक, संक्षारण प्रतिरोधी, सेमीकंडक्टर, लेजर और ऑप्टिकल अनुप्रयोगों के लिए उच्च तापमान टिकाऊ।
फ्यूज्ड सिलिका ग्लास प्लेट उच्च शुद्धता क्वार्ट्ज सामग्री गर्मी उच्च तापमान क्वार्ट्ज वेफर
फैक्टरी उच्च शुद्धता (SiO₂>99.99%) गर्मी प्रतिरोधी क्वार्ट्ज ग्लास प्लेटों को नरम बिंदु 1683°C, कार्य तापमान 1100-1200°C, कठोरता मोर्स 6.5, और 92%+ प्रकाश संप्रेषण के साथ आपूर्ति करती है। कस्टम आकार, मोटाई 0.3-100 मिमी, पॉलिश सतह और कम MOQ उपलब्ध।
गोल स्पष्ट क्वार्ट्ज पाइप उच्च तापमान प्रतिरोधी मानक क्वार्ट्ज ट्यूब
99.99% SiO₂ शुद्धता के साथ गोल साफ़ क्वार्ट्ज पाइप, 1100℃ तक उच्च तापमान प्रतिरोधी, पिघलने बिंदु 1732℃। सेमीकंडक्टर, उच्च तापमान भट्टियों और प्रयोगशाला अनुप्रयोगों के लिए कस्टम आकार 10-10000 मिमी ओडी। नि:शुल्क नमूने उपलब्ध हैं।
उच्च शुद्धता 99.99% क्वार्ट्ज ग्लास ट्यूब गर्मी प्रतिरोधी फ्यूज्ड सिलिका ट्यूब प्रयोगशाला भट्टी निर्माता के लिए गोल क्वार्ट्ज पाइप
भट्टियों, अर्धचालक उपकरण और प्रयोगशाला रिएक्टरों के लिए अनुकूलित उच्च तापमान प्रतिरोधी 99.99% SiO₂ क्वार्ट्ज ग्लास ट्यूब। विशेषताएं 1100℃ कार्य तापमान, संक्षारण प्रतिरोध और कस्टम प्रसंस्करण। ISO9001, CE, RoHS प्रमाणित नि:शुल्क नमूने उपलब्ध हैं।
फैक्टरी प्रत्यक्ष 1150°C गर्मी प्रतिरोधी क्वार्ट्ज ग्लास प्लेट के साथ >92% प्रकाश पारगम्यता और कस्टम आकार 0.5-100 मिमी
99.99% SiO2 शुद्धता, 1150℃ कार्य तापमान, >92% प्रकाश संप्रेषण, और 0.5-100 मिमी मोटाई के साथ फैक्टरी प्रत्यक्ष पॉलिश क्वार्ट्ज प्लेटें। जेजीएस मानकों के साथ कस्टम आकार उपलब्ध हैं, जो अर्धचालक, प्रकाशिकी और उच्च गर्मी प्रतिरोध और स्थायित्व की आवश्यकता वाले औद्योगिक अनुप्रयोगों के लिए आदर्श हैं।
उच्च शुद्धता फ्यूज्ड सिलिका क्वार्ट्ज ग्लास ट्यूब उच्च तापमान प्रतिरोधी 1100℃ प्रयोगशाला के लिए कस्टम आकार 1mm-1000mm
High Temperature Resistant Clear Quartz Glass Tube No Bubbles Fused Silica Pipe for Semiconductor Diffusion Furnace Product Characteristics SiO₂ Content 99.9% Density 2.2 g/cm³ Hardness (Moh's Scale) 6.6 Melting Point 1732℃ Working Temperature 1100℃ Max Short-term Temperature 1450℃ Visible Light ...
रसायन विज्ञान प्रयोगशाला प्रयोग के लिए उच्च पारदर्शी पॉलिशिंग फ्यूज्ड सिलिका क्वार्ट्ज ग्लास बोतल
रसायन विज्ञान प्रयोगशाला प्रयोग के लिए उच्च पारदर्शी पॉलिशिंग फ्यूज्ड सिलिका क्वार्ट्ज ग्लास बोतल। विशेषताएं 99.99% SiO₂ सामग्री, 1732℃ गलनांक, 1100℃ कार्य तापमान और 6.6 कठोरता। प्रयोगशाला अनुसंधान, अर्धचालक प्रक्रियाओं और विश्वविद्यालय शिक्षण अनुप्रयोगों के लिए आदर्श।
कारखाने कस्टम उच्च तापमान प्रतिरोधी पारदर्शी क्वार्ट्ज सर्पिल पाइप
Shengfan Quartz plate characteristic *Brand shengfanquartz *SIO2 99.99% *Density 2.2(g/cm³) *Degree of hardness moh’ scale 6.6 *Melting point 1732℃ * Working temperature 1100℃ *Annealing point 1180℃ *Softening point 1630℃ Setting Information Color Transparent Shape Circular / Round Standard JGS1...
