99.99% SiO₂ शुद्धता के साथ अनुकूलित आकार फ़्यूज्ड क्लियर क्वार्ट्ज ट्यूब, 1100℃ तक काम करने का तापमान, OD रेंज 10-10000 मिमी। अर्धचालक, उच्च तापमान भट्टियों और प्रयोगशाला अनुप्रयोगों के लिए आदर्श। पंचिंग/कटिंग प्रसंस्करण सेवाओं के साथ नि:शुल्क नमूने उपलब्ध हैं।
सेमीकंडक्टर अनुप्रयोगों के लिए JGS1/JGS2/JGS3 ग्रेड में सटीक मशीनीकृत ड्रिल्ड क्वार्ट्ज प्लेटें। सुविधाएँ 99.99% SiO₂ शुद्धता, 1100℃ कार्य तापमान, और कस्टम पंचिंग/कटिंग सेवाएँ। नि:शुल्क नमूनों और कम MOQ के साथ पारदर्शी फ्यूज्ड सिलिका में उपलब्ध है।
99.99% SiO₂ शुद्धता के साथ पेशेवर कस्टम क्वार्ट्ज बोतल, 1100℃ कार्य तापमान और 1732℃ पिघलने बिंदु का सामना करती है। प्रयोगशाला अनुसंधान, अर्धचालक प्रक्रियाओं और विश्वविद्यालय शिक्षण अनुप्रयोगों के लिए आदर्श।
99.99% SiO2 शुद्धता, 1150℃ कार्य तापमान, >92% प्रकाश संप्रेषण, और 0.5-100 मिमी मोटाई के साथ फैक्टरी प्रत्यक्ष पॉलिश क्वार्ट्ज प्लेटें। जेजीएस मानकों के साथ कस्टम आकार उपलब्ध हैं, जो अर्धचालक, प्रकाशिकी और उच्च गर्मी प्रतिरोध और स्थायित्व की आवश्यकता वाले औद्योगिक अनुप्रयोगों के लिए आदर्श हैं।
High Temperature Resistant Clear Quartz Glass Tube No Bubbles Fused Silica Pipe for Semiconductor Diffusion Furnace Product Characteristics SiO₂ Content 99.9% Density 2.2 g/cm³ Hardness (Moh's Scale) 6.6 Melting Point 1732℃ Working Temperature 1100℃ Max Short-term Temperature 1450℃ Visible Light ...
High Temperature Resistant Clear Quartz Glass Tube No Bubbles Fused Silica Pipe for Semiconductor Diffusion Furnace Product Characteristics SiO₂ Content 99.9% Density 2.2 g/cm³ Hardness (Moh's Scale) 6.6 Melting Point 1732℃ Working Temperature 1100℃ Max Short-term Temperature 1450℃ Visible Light ...
99.99% SiO₂ सामग्री के साथ उच्च परिशुद्धता क्वार्ट्ज स्क्रू थ्रेड ट्यूब, 1100 ℃ तक काम करने का तापमान, पिघलने बिंदु 1732 ℃। उच्च तापमान प्रतिरोधी, संक्षारण प्रतिरोधी, प्रयोगशाला अनुसंधान, अर्धचालक और विश्वविद्यालय शिक्षण अनुप्रयोगों के लिए आदर्श।
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