| उत्पाद का नाम | परिशुद्धता ग्लास मशीनिंग |
|---|---|
| सामग्री | SiO2 |
| कठोरता | मोर्स 6.5 |
| वर्किंग टेम्परेचर | 1100 ℃ |
| सतही गुणवत्ता | 20/40 या 40/60 |
| टाइप | क्वार्ट्ज प्लेट साफ़ करें |
|---|---|
| आवेदन पत्र | सेमीकंडक्टर, ऑप्टिकल |
| मोटाई | 0.5-100 मिमी |
| आकार | वर्ग |
| प्रसंस्करण सेवा | छिद्रण, काटना, पॉलिश करना |
| उत्पाद का नाम | क्वार्ट्ज ग्लास प्लेट |
|---|---|
| सामग्री | SiO2> 99.99% |
| घनत्व | 2.2g / सेमी 3 |
| कठोरता | मोर्स 6.5 |
| काम कर रहे अस्थायी | 1150 ℃ |
| उत्पाद का नाम | क्वार्ट्ज ग्लास प्लेट |
|---|---|
| सामग्री | SiO2 |
| कठोरता | मोर्स 6.5 |
| वर्किंग टेम्परेचर | 1100 ℃ |
| सतही गुणवत्ता | 20/40 या 40/60 |
| टाइप | क्वार्ट्ज प्लेट साफ़ करें |
|---|---|
| आवेदन पत्र | सेमीकंडक्टर, ऑप्टिकल |
| मोटाई | 0.5-100 मिमी |
| आकार | वर्ग |
| प्रसंस्करण सेवा | झुकने, वेल्डिंग, छिद्रण, चमकाने |
| प्रकार | क्वार्ट्ज प्लेट साफ़ करें |
|---|---|
| आवेदन | सेमीकंडक्टर, ऑप्टिकल |
| मोटाई | 0.5-100 मिमी |
| आकार | वर्ग |
| प्रसंस्करण सेवा | मुक्का मारना, काटना |
| नाम | क्वार्ट्ज ग्लास ट्यूब |
|---|---|
| विशेषता | उच्च प्रकाश संप्रेषण |
| प्रयोग | ऑप्टिकल उपकरण |
| प्रकाश संप्रेषण | >92% |
| कार्य तापमान | 1100 ℃ |
| सामग्री | SiO2> 99.99% |
|---|---|
| घनत्व | 2.2g / सेमी 3 |
| कठोरता | मोर्स 6.5 |
| काम कर रहे अस्थायी | 1150 ℃ |
| पिघल बिंदु | 1750-1850 ℃ |
| प्रोडक्टकट नाम | क्वार्ट्ज ग्लास प्लेट |
|---|---|
| प्रकाश संप्रेषण | > 92% |
| घनत्व | 2.2g / सेमी 3 |
| काम कर रहे अस्थायी | 1100 ℃ |
| कठोरता | मोर्स 6.5 |
| Type | Clear Quartz Plate |
|---|---|
| Application | Semiconductor, optical |
| Thickness | 0.5-100mm |
| Shape | Square |
| Processing Service | Punching, Cutting |
