Type | Clear Quartz Plate |
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Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Square |
Processing Service | Punching, Cutting |
उत्पाद का नाम | क्वार्ट्ज ग्लास प्लेट |
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सामग्री | SiO2 |
कठोरता | मोर्स 6.5 |
वर्किंग टेम्परेचर | 1100 ℃ |
सतही गुणवत्ता | 20/40 या 40/60 |
उत्पाद का नाम | परिशुद्धता ग्लास मशीनिंग |
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सामग्री | SiO2 |
कठोरता | मोर्स 6.5 |
वर्किंग टेम्परेचर | 1100 ℃ |
सतही गुणवत्ता | 20/40 या 40/60 |
उत्पाद का नाम | क्वार्ट्ज टेस्ट ट्यूब |
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सामग्री | फ़्यूज़ क्वार्ट्ज़ |
वर्किंग टेम्परेचर | 1100 ℃ |
कठोरता | मोर्स 6.5 |
कंप्रेसिव स्ट्रेंथ | 1100Mpa |
सामग्री | SiO2> 99.99% |
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घनत्व | 2.2g / सेमी 3 |
कठोरता | मोर्स 6.5 |
काम कर रहे अस्थायी | 1150 ℃ |
पिघल बिंदु | 1750-1850 ℃ |
सामग्री | SiO2> 99.99% |
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घनत्व | 2.2g / सेमी 3 |
कठोरता | मोर्स 6.5 |
काम कर रहे अस्थायी | 1150 ℃ |
पिघल बिंदु | 1750-1850 ℃ |
सामग्री | SiO2> 99.99% |
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घनत्व | 2.2g / सेमी 3 |
कठोरता | मोर्स 6.5 |
आकार | स्वनिर्धारित |
पिघल बिंदु | 1750-1850 ℃ |
उत्पाद का नाम | क्वार्ट्ज ट्यूब निकला हुआ किनारा |
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सामग्री | SiO2 |
घनत्व | 2.2g / सेमी 3 |
कठोरता | मोर्स 6.5 |
वर्किंग टेम्परेचर | 1100 ℃ |
सामग्री | SiO2> 99.99% |
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घनत्व | 2.2g / सेमी 3 |
कठोरता | मोर्स 6.5 |
काम कर रहे अस्थायी | 1150 ℃ |
पिघल बिंदु | 1750-1850 ℃ |
सामग्री | SiO2> 99.99% |
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घनत्व | 2.2g / सेमी 3 |
कठोरता | मोर्स 6.5 |
काम कर रहे अस्थायी | 1150 ℃ |
पिघल बिंदु | 1750-1850 ℃ |