उत्पाद का नाम | क्वार्ट्ज ग्लास प्लेट |
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सामग्री | 99.99% |
प्रकाश संप्रेषण | 92% |
घनत्व | 2.2g / सेमी 3 |
काम कर रहे अस्थायी | 1100 ℃ |
उत्पाद का नाम | क्वार्ट्ज ग्लास प्लेट |
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सामग्री | SiO2> 99.999% |
घनत्व | 2.2 (g / cm3) |
प्रकाश संप्रेषण | > 92% |
कठोरता | मोर्स 6.5 |
प्रोडक्ट का नाम | क्वार्ट्ज ग्लास प्लेट |
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सामग्री | SIO2>99.99% |
घनत्व | 2.2 ग्राम/सेमी3 |
कठोरता | मोर्स 6.5 |
कार्य तापमान | 1150 ℃ |
प्रोडक्ट का नाम | क्वार्ट्ज ग्लास प्लेट |
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सामग्री | SIO2>99.99% |
Density | 2.2g/cm3 |
कठोरता | मोर्स 6.5 |
कार्य तापमान | 1150 ℃ |
Type | Clear Quartz Plate |
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Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Square |
Processing Service | Punching, Cutting |
प्रकार | क्वार्ट्ज प्लेट साफ़ करें |
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आवेदन | सेमीकंडक्टर, ऑप्टिकल |
मोटाई | 0.5-100 मिमी |
आकार | वर्ग |
प्रसंस्करण सेवा | मुक्का मारना, काटना |
प्रकार | क्वार्ट्ज वेफर वाहक |
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आवेदन | सेमीकंडक्टर, ऑप्टिकल |
मोटाई | 0.5-100 मिमी |
आकार | वर्ग |
प्रसंस्करण सेवा | झुकना, वेल्डिंग, छिद्रण, चमकाने |
प्रकार | साफ़ क्वार्ट्ज़ ट्यूब |
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आवेदन | सेमीकंडक्टर, ऑप्टिकल |
मोटाई | 0.5-100 मिमी |
आकार | अर्धवृत्ताकार |
प्रसंस्करण सेवा | झुकना, वेल्डिंग, छिद्रण, चमकाने |
उत्पाद का नाम | छिद्रित क्वार्ट्ज ग्लास |
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सामग्री | SiO2 |
कठोरता | मोर्स 6.5 |
वर्किंग टेम्परेचर | 1100 ℃ |
सतही गुणवत्ता | 20/40 या 40/60 |
उत्पाद का नाम | क्वार्ट्ज ग्लास प्लेट |
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सामग्री | SiO2 |
कठोरता | मोर्स 6.5 |
वर्किंग टेम्परेचर | 1100 ℃ |
सतही गुणवत्ता | 20/40 या 40/60 |