| सामग्री | SiO2> 99.99% |
|---|---|
| आयुध डिपो | 3-300mm |
| प्रकाश संप्रेषण | > 92% |
| काम कर रहे अस्थायी | 1100 ℃ |
| कठोरता | मोर्स 6.5 |
| सामग्री | SiO2> 99.99% |
|---|---|
| आयुध डिपो | 3-300mm |
| प्रकाश संप्रेषण | > 92% |
| काम कर रहे अस्थायी | 1100 ℃ |
| कठोरता | मोर्स 6.5 |
| कीवर्ड | विज्ञान प्रयोगशाला कांच के बने पदार्थ |
|---|---|
| नाम | प्रक्रिया कांच प्रयोगशाला अनुकूलित क्वार्ट्ज साधन |
| सामग्री | जुड़ा हुआ सिलिकॉन |
| कार्य तापमान | 1100 ℃ |
| एसिड सहनशीलता | सिरेमिक से 30 गुना |
| उत्पाद का नाम | परिशुद्धता ग्लास मशीनिंग |
|---|---|
| सामग्री | SiO2 |
| कठोरता | मोर्स 6.5 |
| वर्किंग टेम्परेचर | 1100 ℃ |
| सतही गुणवत्ता | 20/40 या 40/60 |
| सामग्री | SiO2> 99.99% |
|---|---|
| घनत्व | 2.2 (g / cm3) |
| प्रकाश संप्रेषण | > 92% |
| कठोरता | मोर्स 6.5 |
| वर्किंग टेम्परेचर | 1100 ℃ |
| सामग्री | SiO2 |
|---|---|
| घनत्व | 2.2g / सेमी 3 |
| कठोरता | मोर्स 6.5 |
| वर्किंग टेम्परेचर | 1100 ℃ |
| यूवी संप्रेषण | 80% |
| सामग्री | 99.99% |
|---|---|
| प्रकाश संप्रेषण | 92% |
| घनत्व | 2.2g / सेमी 3 |
| काम कर रहे अस्थायी | 1100 ℃ |
| कठोरता | मोर्स 6.5 |
| नाम | क्वार्ट्ज ग्लास डिस्क |
|---|---|
| प्रकाश संप्रेषण | > 92% |
| घनत्व | 2.2g / सेमी 3 |
| काम कर रहे अस्थायी | 1100 ℃ |
| कठोरता | मोर्स 6.5 |
| उत्पाद का नाम | फ्यूज्ड क्वार्ट्ज प्लेट |
|---|---|
| सामग्री | SiO2> 99.99% |
| घनत्व | 2.2g / सेमी 3 |
| कठोरता | मोर्स 6.5 |
| काम कर रहे अस्थायी | 1150 ℃ |
| उत्पाद का नाम | फ्यूज्ड क्वार्ट्ज प्लेट |
|---|---|
| सामग्री | SiO2> 99.99% |
| घनत्व | 2.2g / सेमी 3 |
| कठोरता | मोर्स 6.5 |
| काम कर रहे अस्थायी | 1150 ℃ |
