| उत्पाद का नाम | क्वार्ट्ज ग्लास प्लेट |
|---|---|
| सामग्री | SiO2> 99.99% |
| घनत्व | 2.2g / सेमी 3 |
| कठोरता | मोर्स 6.5 |
| काम कर रहे अस्थायी | 1150 ℃ |
| कीवर्ड | विज्ञान प्रयोगशाला कांच के बने पदार्थ |
|---|---|
| नाम | प्रक्रिया कांच प्रयोगशाला अनुकूलित क्वार्ट्ज साधन |
| सामग्री | जुड़ा हुआ सिलिकॉन |
| वर्किंग टेम्परेचर | 1100 ℃ |
| एसिड सहनशीलता | सिरेमिक से 30 गुना |
| कीवर्ड | विज्ञान प्रयोगशाला कांच के बने पदार्थ |
|---|---|
| नाम | प्रक्रिया कांच प्रयोगशाला अनुकूलित क्वार्ट्ज साधन |
| सामग्री | जुड़ा हुआ सिलिकॉन |
| कार्य तापमान | 1100 ℃ |
| एसिड सहनशीलता | सिरेमिक से 30 गुना |
| कीवर्ड | विज्ञान प्रयोगशाला कांच के बने पदार्थ |
|---|---|
| नाम | प्रक्रिया कांच प्रयोगशाला अनुकूलित क्वार्ट्ज साधन |
| सामग्री | जुड़ा हुआ सिलिकॉन |
| कार्य तापमान | 1100 ℃ |
| एसिड सहनशीलता | सिरेमिक से 30 गुना |
| कीवर्ड | विज्ञान प्रयोगशाला कांच के बने पदार्थ |
|---|---|
| नाम | प्रक्रिया कांच प्रयोगशाला अनुकूलित क्वार्ट्ज साधन |
| सामग्री | जुड़ा हुआ सिलिकॉन |
| कार्य तापमान | 1100 ℃ |
| एसिड सहनशीलता | सिरेमिक से 30 गुना |
| कीवर्ड | विज्ञान प्रयोगशाला कांच के बने पदार्थ |
|---|---|
| नाम | प्रक्रिया कांच प्रयोगशाला अनुकूलित क्वार्ट्ज साधन |
| सामग्री | जुड़ा हुआ सिलिकॉन |
| कार्य तापमान | 1100 ℃ |
| एसिड सहनशीलता | सिरेमिक से 30 गुना |
| कीवर्ड | विज्ञान प्रयोगशाला कांच के बने पदार्थ |
|---|---|
| नाम | प्रक्रिया कांच प्रयोगशाला अनुकूलित क्वार्ट्ज साधन |
| सामग्री | जुड़ा हुआ सिलिकॉन |
| कार्य तापमान | 1100 ℃ |
| एसिड सहनशीलता | सिरेमिक से 30 गुना |
| नाम | क्वार्ट्ज ग्लास डिस्क |
|---|---|
| प्रकाश संप्रेषण | > 92% |
| घनत्व | 2.2g / सेमी 3 |
| काम कर रहे अस्थायी | 1100 ℃ |
| कठोरता | मोर्स 6.5 |
| उत्पाद का नाम | क्वार्ट्ज ग्लास प्लेट |
|---|---|
| सामग्री | SiO2 |
| कठोरता | मोर्स 6.5 |
| वर्किंग टेम्परेचर | 1100 ℃ |
| सतही गुणवत्ता | 20/40 या 40/60 |
| उत्पाद का नाम | क्वार्ट्ज ग्लास क्रूसिबल |
|---|---|
| SiO2 | 99.99% |
| काम कर रहे अस्थायी | 1200 ℃ |
| पिघल बिंदु | 1750-1850 ℃ |
| प्रयोग | प्रयोगशाला, जीव विज्ञान, चिकित्सा |
