| प्रकार | क्वार्ट्ज प्लेट साफ़ करें |
|---|---|
| आवेदन | सेमीकंडक्टर, ऑप्टिकल |
| मोटाई | 0.5-100 मिमी |
| आकार | वर्ग |
| प्रसंस्करण सेवा | झुकना, वेल्डिंग, छिद्रण, चमकाने |
| कीवर्ड | विज्ञान प्रयोगशाला कांच के बने पदार्थ |
|---|---|
| नाम | प्रक्रिया कांच प्रयोगशाला अनुकूलित क्वार्ट्ज साधन |
| सामग्री | जुड़ा हुआ सिलिकॉन |
| कार्य तापमान | 1100 ℃ |
| एसिड सहनशीलता | सिरेमिक से 30 गुना |
| कीवर्ड | विज्ञान प्रयोगशाला कांच के बने पदार्थ |
|---|---|
| नाम | प्रक्रिया कांच प्रयोगशाला अनुकूलित क्वार्ट्ज साधन |
| सामग्री | जुड़ा हुआ सिलिकॉन |
| कार्य तापमान | 1100 ℃ |
| एसिड सहनशीलता | सिरेमिक से 30 गुना |
| कीवर्ड | विज्ञान प्रयोगशाला कांच के बने पदार्थ |
|---|---|
| नाम | प्रक्रिया कांच प्रयोगशाला अनुकूलित क्वार्ट्ज साधन |
| सामग्री | जुड़ा हुआ सिलिकॉन |
| कार्य तापमान | 1100 ℃ |
| एसिड सहनशीलता | सिरेमिक से 30 गुना |
| कीवर्ड | विज्ञान प्रयोगशाला कांच के बने पदार्थ |
|---|---|
| नाम | प्रक्रिया कांच प्रयोगशाला अनुकूलित क्वार्ट्ज साधन |
| सामग्री | जुड़ा हुआ सिलिकॉन |
| कार्य तापमान | 1100 ℃ |
| एसिड सहनशीलता | सिरेमिक से 30 गुना |
| keyword | Science Lab Glassware |
|---|---|
| Name | process glass lab customized quartz instrument |
| Material | fused silicon |
| Working temperature | 1100℃ |
| Acid tolerance | 30 times than ceramics |
| उत्पाद का नाम | परिशुद्धता ग्लास मशीनिंग |
|---|---|
| सामग्री | SiO2 |
| कठोरता | मोर्स 6.5 |
| वर्किंग टेम्परेचर | 1100 ℃ |
| सतही गुणवत्ता | 20/40 या 40/60 |
| उत्पाद का नाम | क्वार्ट्ज ग्लास प्लेट |
|---|---|
| सामग्री | SiO2> 99.999% |
| घनत्व | 2.2 (g / cm3) |
| प्रकाश संप्रेषण | > 92% |
| कठोरता | मोर्स 6.5 |
| सामग्री | SiO2> 99.999% |
|---|---|
| घनत्व | 2.2 (g / cm3) |
| प्रकाश संप्रेषण | > 92% |
| कठोरता | मोर्स 6.5 |
| वर्किंग टेम्परेचर | 1100 ℃ |
| टाइप | क्वार्ट्ज प्लेट साफ़ करें |
|---|---|
| आवेदन पत्र | सेमीकंडक्टर, ऑप्टिकल |
| मोटाई | 0.5-100 मिमी |
| आकार | वर्ग |
| प्रसंस्करण सेवा | झुकने, वेल्डिंग, छिद्रण, काटना |
