| उत्पाद का नाम | परिशुद्धता ग्लास मशीनिंग |
|---|---|
| सामग्री | SiO2 |
| कठोरता | मोर्स 6.5 |
| वर्किंग टेम्परेचर | 1200 ℃ |
| सतही गुणवत्ता | 20/40 या 40/60 |
| उत्पाद का नाम | परिशुद्धता ग्लास मशीनिंग |
|---|---|
| सामग्री | SiO2 |
| कठोरता | मोर्स 6.5 |
| वर्किंग टेम्परेचर | 1100 ℃ |
| सतही गुणवत्ता | 20/40 या 40/60 |
| उत्पाद का नाम | प्रेसिजन ग्लास मशीनिंग |
|---|---|
| सामग्री | Sio2 |
| कठोरता | मोर्स 6.5 |
| वर्किंग टेम्परेचर | 1100 ℃ |
| सतही गुणवत्ता | 20/40 या 40/60 |
| कीवर्ड | विज्ञान प्रयोगशाला कांच के बने पदार्थ |
|---|---|
| नाम | प्रक्रिया कांच प्रयोगशाला अनुकूलित क्वार्ट्ज साधन |
| सामग्री | जुड़ा हुआ सिलिकॉन |
| कार्य तापमान | 1100 ℃ |
| एसिड सहनशीलता | सिरेमिक से 30 गुना |
| प्रोडक्ट का नाम | प्रेसिजन ग्लास मशीनिंग |
|---|---|
| सामग्री | SiO2 |
| कठोरता | मोर्स 6.5 |
| वर्किंग टेम्परेचर | 1100 ℃ |
| सतही गुणवत्ता | 20/40 या 40/60 |
| सामग्री | फ्यूज्ड सिलिकॉन |
|---|---|
| वर्किंग टेम्परेचर | 1250 ℃ |
| एसिड टॉलरेंस | सिरेमिक की तुलना में 30 गुना |
| कठोरता | मोर्स 6.5 |
| आवेदन | प्रयोगशाला परीक्षण |
| प्रोडक्ट का नाम | प्रेसिजन ग्लास मशीनिंग |
|---|---|
| सामग्री | SIO2 |
| कठोरता | मोर्स 6.5 |
| वर्किंग टेम्परेचर | 1100 ℃ |
| सतही गुणवत्ता | 20/40 या 40/60 |
| टाइप | क्वार्ट्ज प्लेट साफ़ करें |
|---|---|
| आवेदन पत्र | सेमीकंडक्टर, ऑप्टिकल |
| मोटाई | 0.5-100 मिमी |
| आकार | वर्ग |
| प्रसंस्करण सेवा | झुकना, वेल्डिंग, छिद्रण, काटना |
| प्रकार | क्वार्ट्ज प्लेट साफ़ करें |
|---|---|
| आवेदन | सेमीकंडक्टर, ऑप्टिकल |
| मोटाई | 0.5-100 मिमी |
| आकार | वर्ग |
| प्रसंस्करण सेवा | झुकना, वेल्डिंग, छिद्रण, चमकाने |
| Type | Clear Quartz Plate |
|---|---|
| Application | Semiconductor, optical |
| Thickness | 0.5-100mm |
| Shape | Square |
| Processing Service | Bending, Welding, Punching, polishing |
