February 28, 2026
लेजर-कट क्वार्ट्ज प्लेटें उच्च-शुद्धता वाले फ्यूज्ड सिलिका (SiO₂ ≥99.99%) से बनी उच्च-सटीकता वाले घटक हैं, जिन्हें उन्नत CO₂ या अल्ट्राफास्ट लेजर तकनीक का उपयोग करके तैयार किया जाता है। यह गैर-संपर्क प्रसंस्करण विधि सामग्री के आंतरिक गुणों को बनाए रखती है, जबकि माइक्रोन-स्तरीय आयामी सटीकता प्रदान करती है, जिससे यह उच्च-स्तरीय औद्योगिक, ऑप्टिकल और सेमीकंडक्टर अनुप्रयोगों के लिए पसंदीदा विकल्प बन जाती है।
मुख्य प्रदर्शन
1. असाधारण आयामी सटीकता
कटिंग टॉलरेंस ±0.01 मिमी जितनी तंग, केरफ चौड़ाई के साथ < 0.1 मिमी और एज चिपिंग ≤ 5 μm। जटिल आकार (वृत्त, आयत, अनियमित कंटूर) को सक्षम बनाता है जिन्हें यांत्रिक कटिंग से प्राप्त करना मुश्किल होता है।
2. न्यूनतम तापीय प्रभाव
उन्नत लेजर प्रसंस्करण के परिणामस्वरूप एक संकीर्ण ताप-प्रभावित क्षेत्र (HAZ) और नगण्य तापीय विरूपण होता है। गैर-संपर्क विधि यांत्रिक तनाव को समाप्त करती है, माइक्रो-क्रैक को रोकती है और संरचनात्मक अखंडता सुनिश्चित करती है।
3. बेहतर ऑप्टिकल ट्रांसमिटेंस
सामग्री के अंतर्निहित ऑप्टिकल प्रदर्शन को बनाए रखता है: यूवी (190 एनएम) से निकट-अवरक्त (2500 एनएम) तक >90% ट्रांसमिटेंस। उच्च-ऊर्जा लेजर सिस्टम और यूवी ऑप्टिकल अनुप्रयोगों के लिए आदर्श।
4. अत्यधिक तापीय शॉक प्रतिरोध
अल्ट्रा-लो थर्मल विस्तार गुणांक (5.5×10⁻⁷/°C), जिससे यह -200°C से 1100°C तक के तेजी से तापमान चक्रों का बिना टूटे सामना कर सकता है।
5. उत्कृष्ट रासायनिक निष्क्रियता
अधिकांश एसिड, क्षार और कार्बनिक सॉल्वैंट्स (हाइड्रोफ्लोरिक एसिड को छोड़कर) के प्रतिरोधी। रासायनिक प्रसंस्करण और सेमीकंडक्टर निर्माण में संक्षारक वातावरण के लिए उपयुक्त।
6. उच्च यांत्रिक शक्ति
सामग्री की प्राकृतिक कठोरता (मोहस 7) और फ्लेक्सरल शक्ति को बनाए रखता है, जो उच्च तापमान पर भी बढ़ जाती है (कमरे के तापमान पर 1000°C पर 30%-60% अधिक)।
मुख्य अनुप्रयोग
1. सेमीकंडक्टर और फोटोवोल्टिक
सटीक वाहक, वेफर निरीक्षण खिड़कियां, और लिथोग्राफी मास्क सब्सट्रेट। एचिंग, डिपोजिशन और वेफर डाइसिंग जैसी उच्च-शुद्धता प्रक्रियाओं के लिए महत्वपूर्ण।
2. लेजर और ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक्स
लेजर कैविटी, ऑप्टिकल खिड़कियां, बीम स्प्लिटर और सेंसर घटक। न्यूनतम ऊर्जा हानि के साथ उच्च-शक्ति लेजर ट्रांसमिशन को सक्षम बनाता है।
3. चिकित्सा और जैव प्रौद्योगिकी
बायोसेंसर चिप्स, सेल कल्चर डिश, और फ्लो साइटोमीटर घटक। गैर-संपर्क, संदूषण-मुक्त कटिंग प्रक्रिया सख्त जैव-अनुकूलता मानकों को पूरा करती है।
4. औद्योगिक संवेदन और उच्च-तापमान उपकरण
उच्च-तापमान दृष्टि ग्लास, दबाव सेंसर डायाफ्राम, और भट्ठी घटक। चरम तापीय और संक्षारक औद्योगिक वातावरण में विश्वसनीय प्रदर्शन।
5. एयरोस्पेस और रक्षा
सैटेलाइट ऑप्टिकल खिड़कियां, मिसाइल मार्गदर्शन प्रणाली घटक, और एयरोस्पेस सेंसर हाउसिंग। कठोर अंतरिक्ष स्थितियों और चरम तापमान उतार-चढ़ाव का सामना करता है।
6. वैज्ञानिक अनुसंधान
कस्टम नमूना धारक, स्पेक्ट्रोस्कोपी सेल, और लेजर भौतिकी प्रयोग घटक। जटिल ज्यामिति के साथ सटीक प्रयोगात्मक सेटअप की सुविधा प्रदान करता है।
