| प्रकार | स्पष्ट क्वार्ट्ज प्लेट |
|---|---|
| आवेदन | अर्धचालक, ऑप्टिकल |
| मोटाई | 0.5-100 मिमी |
| आकार | वर्ग |
| प्रक्रमण सेवा | छिद्रण, कटिंग |
| नाम | क्वार्ट्ज ग्लास डिस्क |
|---|---|
| प्रकाश संप्रेषण | > 92% |
| घनत्व | 2.2g / सेमी 3 |
| काम कर रहे अस्थायी | 1100 ℃ |
| कठोरता | मोर्स 6.5 |
| उत्पाद का नाम | क्वार्ट्ज ग्लास प्लेट |
|---|---|
| सामग्री | 99.99% |
| प्रकाश संप्रेषण | 92% |
| घनत्व | 2.2g / सेमी 3 |
| काम कर रहे अस्थायी | 1100 ℃ |
| उत्पाद का नाम | क्वार्ट्ज ट्यूब निकला हुआ किनारा |
|---|---|
| सामग्री | SiO2 |
| आकार | स्वनिर्धारित |
| प्रकाश संप्रेषण | > 92% |
| घनत्व | 2.2g / सेमी 3 |
| नाम | क्वार्ट्ज ट्यूब निकला हुआ किनारा |
|---|---|
| फ़ीचर | HGH तापमान प्रतिरोध / जंग प्रतिरोध |
| आवेदन | ऑप्टिकल इंस्ट्रूमेंट |
| घनत्व | 2.2g / सेमी 3 |
| कठोरता | मोर्स 6.5 |
| सामग्री | SiO2 |
|---|---|
| घनत्व | 2.2g / सेमी 3 |
| कठोरता | मोर्स 6.5 |
| वर्किंग टेम्परेचर | 1100 ℃ |
| यूवी संप्रेषण | 80% |
| सामग्री | SiO2 |
|---|---|
| घनत्व | 2.2g / सेमी 3 |
| कठोरता | मोर्स 6.5 |
| वर्किंग टेम्परेचर | 1100 ℃ |
| यूवी संप्रेषण | 80% |
| सामग्री | SiO2 |
|---|---|
| घनत्व | 2.2g / सेमी 3 |
| कठोरता | मोर्स 6.5 |
| वर्किंग टेम्परेचर | 1100 ℃ |
| यूवी संप्रेषण | 80% |
| सामग्री | SiO2 |
|---|---|
| घनत्व | 2.2g / सेमी 3 |
| कठोरता | मोर्स 6.5 |
| वर्किंग टेम्परेचर | 1100 ℃ |
| यूवी संप्रेषण | 80% |
| सामग्री | SiO2 |
|---|---|
| घनत्व | 2.2g / सेमी 3 |
| कठोरता | मोर्स 6.5 |
| वर्किंग टेम्परेचर | 1100 ℃ |
| यूवी संप्रेषण | 80% |
