| टाइप | क्वार्ट्ज प्लेट साफ़ करें |
|---|---|
| आवेदन पत्र | सेमीकंडक्टर, ऑप्टिकल |
| मोटाई | 0.5-100 मिमी |
| आकार | वर्ग |
| प्रसंस्करण सेवा | छिद्रण, काटना, पॉलिश करना |
| उत्पाद का नाम | क्वार्ट्ज ग्लास रॉड |
|---|---|
| सामग्री | SIO2>99.99% |
| घनत्व | 2.2 ग्राम/सेमी3 |
| प्रकाश संप्रेषण | 92% |
| कठोरता | मोर्स 6.5 |
| कीवर्ड | विज्ञान प्रयोगशाला कांच के बने पदार्थ |
|---|---|
| नाम | प्रक्रिया कांच प्रयोगशाला अनुकूलित क्वार्ट्ज साधन |
| सामग्री | जुड़ा हुआ सिलिकॉन |
| कार्य तापमान | 1100 ℃ |
| एसिड सहनशीलता | सिरेमिक से 30 गुना |
| उत्पाद का नाम | गोल क्वार्ट्ज ग्लास |
|---|---|
| सामग्री | SiO2> 99.99% |
| घनत्व | 2.2g / सेमी 3 |
| कठोरता | मोर्स 6.5 |
| काम कर रहे अस्थायी | 1150 ℃ |
| प्रोडक्ट का नाम | क्वार्ट्ज ग्लास प्लेट |
|---|---|
| सामग्री | 99.99% |
| प्रकाश संप्रेषण | 92% |
| घनत्व | 2.2 ग्राम/सेमी3 |
| कार्य तापमान | 1100 ℃ |
| टाइप | क्वार्ट्ज प्लेट साफ़ करें |
|---|---|
| आवेदन पत्र | यूवी प्रकाश, ऑप्टिकल |
| मोटाई | 0.5-100 मिमी |
| आकार | वर्ग |
| प्रसंस्करण सेवा | झुकने, वेल्डिंग, छिद्रण, काटना |
| कीवर्ड | विज्ञान प्रयोगशाला कांच के बने पदार्थ |
|---|---|
| नाम | प्रक्रिया कांच प्रयोगशाला अनुकूलित क्वार्ट्ज साधन |
| सामग्री | जुड़ा हुआ सिलिकॉन |
| वर्किंग टेम्परेचर | 1100 ℃ |
| एसिड सहनशीलता | सिरेमिक से 30 गुना |
| सामग्री | SiO2> 99.99% |
|---|---|
| घनत्व | 2.2 (g / cm3) |
| प्रकाश संप्रेषण | > 92% |
| कठोरता | मोर्स 6.5 |
| वर्किंग टेम्परेचर | 1100 ℃ |
| उत्पाद का नाम | क्वार्ट्ज ग्लास प्लेट |
|---|---|
| सामग्री | SiO2> 99.99% |
| घनत्व | 2.2 (g / cm3) |
| कठोरता | मोर्स 6.5 |
| वर्किंग टेम्परेचर | 1100 ℃ |
| क्वार्ट्ज नाम | क्वार्ट्ज ग्लास प्लेट |
|---|---|
| सामग्री | 99.99% |
| प्रकाश संप्रेषण | 92% |
| घनत्व | 2.2g / सेमी 3 |
| काम कर रहे अस्थायी | 1100 ℃ |
